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金鹽回收中的選擇性氯化技術(shù)
選擇性氯化法適用于處理含金電子廢料（如PCB），其核心是通過(guò)控制氯氣濃度和溫度實(shí)現(xiàn)金的揮發(fā)：
反應(yīng)機(jī)理
氯化揮發(fā)：2Au + 3Cl? → 2AuCl?（g）（沸點(diǎn)254°C）
雜質(zhì)抑制：Cu、Fe等生成固態(tài)氯化物殘留
工藝參數(shù)優(yōu)化
參數(shù) 佳范圍 作用機(jī)制
溫度 450-500°C 平衡揮發(fā)速率與能耗
Cl?濃度 30-50 vol% 避免過(guò)量腐蝕設(shè)備
載氣流速 0.8-1.2 L/min 確保氣態(tài)AuCl?充分帶出
工業(yè)案例：
日本DOWA的流化床氯化系統(tǒng)：處理含金0.2%的電子廢料，回收率>99%
兩級(jí)冷凝設(shè)計(jì)：200°C（收集AuCl?），二級(jí)50°C（捕集Hg/Pb氯化物）
挑戰(zhàn)：
設(shè)備需采用哈氏合金C276（耐氯腐蝕）
尾氣需堿洗+活性炭吸附處理
金鹽回收中的氧化技術(shù)
處理含氰廢水的深度氧化方案：
1. 臭氧催化氧化
催化劑：MnO?/Al?O?（比表面積180 m2/g）
動(dòng)力學(xué)：
CN? + O? → CNO? + O?（k=3.2×103 M?1s?1）
終產(chǎn)物為CO?和N?（無(wú)二次污染）
2. 電化學(xué)氧化
陽(yáng)極材料：BDD（摻硼金剛石）
操作條件：
電流密度100 A/m2
極板間距10 mm
處理效果：
CN?<0.1 mg/L（達(dá)標(biāo)排放）
能耗8 kWh/kg CN?
經(jīng)濟(jì)性對(duì)比
技術(shù) 投資成本($/t) 運(yùn)行成本($/m3)
堿性氯化法 50,000 1.2
臭氧氧化 120,000 0.8
電化學(xué)氧化 80,000 0.6
金鹽回收濕法冶金回收技術(shù)
濕法工藝適合低濃度金鹽回收，核心步驟包括：
浸出系統(tǒng)
氰化浸出：NaCN濃度0.1-0.5%，pH10.5-11.5，DO>6mg/L
非氰浸出：硫脲（CS(NH?)?）體系，濃度1-2%，F(xiàn)e3?作氧化劑
固液分離
板框過(guò)濾：精度1μm，處理量2-5m3/h
離心分離：3000rpm，固相含金<0.1g/t
富集提純
活性炭吸附：CIL工藝，金負(fù)載量8-15kg/t炭
溶劑萃?。杭谆惗』∕IBK）萃取率>99%
還原沉淀
鋅粉置換：Zn/Au比3:1，反應(yīng)時(shí)間30min
草酸還原：pH1.5-2.0，溫度80-90℃
經(jīng)濟(jì)性對(duì)比：
方法 成本(USD/kg Au) 回收率 適用濃度
氰化 850-1200 98% >1g/t
硫脲 1500-1800 95% 0.1-1g/t
樹(shù)脂 2000-2500 92% <0.1g/t
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